Rusia dilaporkan tengah mengembangkan mesin litografi Extreme Ultraviolet (EUV) sendiri, sebuah langkah ambisius untuk memproduksi chip secara mandiri. Mesin litografi ini akan menggunakan panjang gelombang 11.2 nm, berbeda dengan standar industri 13.5 nm yang digunakan oleh ASML.
Inisiatif ini dipimpin oleh Nikolay Chkhalo dari Institute of Microstructure Physics. Tujuannya adalah menciptakan mesin yang lebih ekonomis dan sederhana dibandingkan sistem yang diproduksi ASML, perusahaan asal Belanda yang mendominasi pasar litografi EUV.
Penggunaan panjang gelombang 11.2 nm menawarkan potensi peningkatan resolusi hingga 20%. Ini memungkinkan pembuatan detail yang lebih halus pada chip, sekaligus berpotensi mengurangi biaya dan kompleksitas desain komponen optik.
Baca Juga: Xiaomi Terjun ke Dunia Chipset, Siap Kembangkan Chip Buatan Sendiri
Meskipun menawarkan keunggulan dalam resolusi, mesin litografi Rusia ini diprediksi memiliki throughput yang lebih rendah, sekitar 2.7 kali di bawah mesin ASML. Namun, dengan sumber cahaya 3.6 kW, kapasitas ini dianggap memadai untuk produksi skala kecil.
Perbedaan panjang gelombang ini menciptakan tantangan tersendiri. Mesin ini tidak kompatibel dengan ekosistem EUV yang ada saat ini. Akibatnya, pengembangan ulang seluruh elemen optik, bahan resist, sistem kontrol kontaminasi, dan teknologi pendukung lainnya menjadi krusial.
Sistem baru ini direncanakan menggunakan photoresist berbasis silikon, yang diharapkan lebih optimal untuk panjang gelombang 11.2 nm. Selain itu, diperlukan pula perangkat lunak Electronic Design Automation (EDA) yang mendukung proses seperti optical proximity correction (OPC) dan persiapan data masker sesuai dengan spesifikasi 11.2 nm.
Proyek pengembangan mesin litografi ini akan melalui tiga tahap penting. Tahap pertama meliputi penelitian dasar dan pengujian komponen awal. Selanjutnya, akan dilakukan pembuatan prototipe untuk wafer 200 mm. Tahap terakhir adalah pengembangan sistem produksi untuk wafer 300 mm, standar industri saat ini.
Kapan Proyek Litografi EUV ini akan Rampung?
Sayangnya, roadmap pengembangan ini belum memberikan jadwal penyelesaian yang pasti. Sehingga, belum dapat dipastikan kapan Rusia dapat memulai produksi chip menggunakan mesin litografi buatan sendiri.
Para ahli memperkirakan pengembangan sistem litografi yang lengkap, termasuk infrastruktur pendukungnya, akan memakan waktu lebih dari satu dekade. Hal ini mengingat kompleksitas teknologi litografi EUV.
Pengembangan mesin litografi ini menandai upaya signifikan Rusia untuk mengurangi ketergantungan pada teknologi asing, terutama dalam sektor semikonduktor yang strategis. Sanksi internasional dan isu geopolitik menjadi pendorong utama inisiatif ini.
Pembangunan ekosistem litografi baru untuk mendukung panjang gelombang 11.2 nm merupakan tantangan besar. Ini mencakup pengembangan desain masker, bahan resist, dan teknologi proses lainnya yang kompatibel.
Keberhasilan proyek ini akan memberikan Rusia kemandirian dalam produksi chip canggih, yang krusial untuk berbagai industri, mulai dari komputer dan smartphone hingga pertahanan dan antariksa.